国内第一台分步投影式光刻机。
1990年，中科院光电所研制出ioe1010g直接分步重复投影光刻机，主要技术指标接近美国gca8000型的水平，而gca8000是美国在80年代中期开发出来的。
此后的八五、九五、十五期间，也都有相应的研究成果问世。中国在光刻机研究方面，虽然达不到国际一流水平，但也绝对没有被国外远远地甩开。
光刻机只是全部半导体设备中的一个例子，半导体领域的其他技术情况也是如此。可以这样说，中国时刻都准备着迎接最严峻的挑战，任何时候都要确保自己有一战之力。